Fibra corta de acero inoxidable 316L ultrafina

Tipo de producto: fibra corta de acero inoxidable 316L ultrafina

Diámetro de la fibra: 1um/1.5um/2um disponible

Duración de corte: 80-100um

Composición química de las materias primas ((Wt%))

En la fabricación de semiconductores, el mantenimiento de gases de proceso de ultra alta pureza es fundamental para prevenir defectos y garantizar altos rendimientos.m los medios de filtración metálicos desempeñan un papel vital en la purificación de los gases al eliminar los contaminantes de partículas y al mismo tiempo contribuir al control de la contaminación molecular en el aire,que es esencial para la fabricación avanzada de obleas.

Principales características y beneficios

Filtración de alta eficiencia (1 μm de retención)

Captura partículas submicrónicas que podrían causar defectos en los procesos de fotolitografía, grabado y deposición.

Reduce el riesgo de contaminación de la superficie de la oblea, mejorando el rendimiento.

Químicamente inerte y resistente a la corrosión

Fabricado con material de alta purezaAcero inoxidable (316L), níquel o aleaciones sinterizadaspara su compatibilidad con gases agresivos (por ejemplo, HF, HCl, NH3).

Resiste la desgasificación, evitando una contaminación adicional.

Capacidad de control de AMC

Algunos filtros de metal avanzados incorporanTratamientos o recubrimientos superficiales(por ejemplo, pasivación, electropolishing) para minimizar la adsorción/desorción de compuestos orgánicos o ácidos volátiles.

Ayuda a conocerSe aplicarán las siguientes medidas:los requisitos para procesos sensibles como la litografía EUV.

Resistencia a altas temperaturas y presión

Funcionamiento estable en condiciones adversas (hasta 500 °C o más para algunas aleaciones).

Apto paraEnfermedades cardiovasculares, difusión e implantación de ioneslas líneas de gas.

Larga vida útil y limpieza

Reutilizable después de la limpieza (metodos ultrasónicos, químicos o térmicos), reduciendo el costo de propiedad.

Diseño de caída de baja presión para un flujo de gas de bajo consumo energético.

Aplicaciones en la fabricación de semiconductores

Entrega de gas de ultraalta pureza (UHP)(N2, Ar, H2, O2, etc.)

Procesos de grabado y deposición(CVD, PVD y ALD)

Fotolitografía(entornos de EUV/DUV sensibles a la AMC)

Gas a granel y filtración en el punto de uso (PoU)

¿Por qué filtros metálicos en vez de alternativas?

Durabilidad superioren comparación con los filtros poliméricos (que pueden degradarse y eliminar partículas).

No hay pérdida de fibraa diferencia de los filtros HEPA/ULPA tradicionales.

Mejor mitigación de la AMCen comparación con los filtros de partículas estándar.

Cumplimiento y normas

F20 de la SEMI(Control de partículas)

Sección F21(Clasificación AMC)

Se aplican los siguientes requisitos:(Normas de la sala de limpieza)

Conclusión

Medios de filtro de metal de 1 μmes una solución robusta para la purificación de gases semiconductores, que combinafiltración de partículas, control de AMC y resistencia químicapara satisfacer las exigencias estrictas de la fabricación avanzada de obleas.